2022年半导体制造技术题库答案

分别简述RVD和GILD原理，它们优缺陷及应用方向。迅速气相掺杂(RVD，Rapid Vapor-phase Doping) 运用迅速热解决过程(RTP)将处在掺杂剂氛围中硅片迅速均匀地加热至所需要温