圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理
圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理 作者:admin 来源:本站发表时间:2010-2-2 9:49:13 点击:2557 磁控溅射膜常见故障的排除 膜层灰暗及发黑 (1)真空度低于0.67Pa。
圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理