微电子6寸晶圆接触孔刻蚀工艺开发的中期报告

微电子6寸晶圆接触孔刻蚀工艺开发的中期报告一、研究背景近年来，随着微电子技术的逐步发展，6寸晶圆的制作工艺也不断地得到了改进和完善。而对于6寸晶圆上的接触孔，其重要性不言而喻，因此，开发一种可靠、高效