射频等离子体化学气相沉积制备硅基发光薄膜的过程和性能研究的综述报告

射频等离子体化学气相沉积制备硅基发光薄膜的过程和性能研究的综述报告射频等离子体化学气相沉积（RF-PECVD）是一种重要的化学气相沉积技术，它可以在高真空环境下通过激发气体产生等离子体，并利用等离子体