薄膜物理CH3溅射镀膜
- Ch.3 溅射镀膜技术 - 溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场作用下高速轰击阴极靶,使靶材中的原子(或分子)逸出而淀积到被镀衬底(或工件)的表面,形成所需要的薄
薄膜物理CH3溅射镀膜