贯穿位错对铝镓氮-氮化镓光学及电子器件性能的影响
贯穿位错对铝镓氮 - 氮化镓光学及电子器件性能的影响(贯穿)位错及其表征氮化镓与其它第三主族氮化物 (如氮化铝和氮化铟) 的多元化合物,因理想的禁带带宽( 3.4eV 及宽达 0.7-6.2eV 的
贯穿位错对铝镓氮-氮化镓光学及电子器件性能的影响