硅基氮化铝薄膜的制备以及表征

硅基氮化铝薄膜的制备以及表征 目前国内外制备AlN薄膜的技术和方法有很多种。溅射电流为0.30-0.40A变化。图1AlN薄膜随溅射电流变化的XRD图。溅射电流对氮化铝薄膜表面形貌的影响。 关键词：A