金属钨溅射靶材制备及性能研究

金属钨溅射靶材制备及性能研究金属钨具有高熔点、高蒸发温度、硬度高、化学稳定性好、导电性好、热膨胀系数小等优良性质，因此广泛应用于半导体、涂层、航空航天等领域。其中，钨溅射靶材则是钨薄膜制备的重要材料。