半导体制造技术期末题库参考 答案

1． 分别简述 RVD 和 GILD 的原理， 它们的优缺点及应用方向。答：快速气相掺杂(RVD, Rapid Vapor-phase Doping)是一种掺杂剂从气相直接向硅中扩散、并能形成超浅结的