湿洗净和干洗净制程设备

12.1 绪论 半导体制程中,用到的湿滞程(wetorocessing)以晶圆洗净(wafercleaning)和湿蚀刻(wet etching)为主。晶圆洗净是尤其重要的,它约占全部ULSI制程步骤