激光-等离子体辅助化学气相沉积工艺参数对氮化硅膜显微硬度的影响
激光-等离子体辅助化学气相沉积工艺参数对氮化硅膜显微硬度的影响激光-等离子体辅助化学气相沉积(Laser-Plasma-Assisted Chemical Vapor Deposition,LPCVD
激光-等离子体辅助化学气相沉积工艺参数对氮化硅膜显微硬度的影响