镍合金(nipt、nial、niy)硅化物固相反应及其和si肖特基接触特性的研究

复里太堂亟±堂焦论塞 摘要 为了适应半导体集成电路制造技术的发展，CMOS晶体管的栅极在结构上和 材料上经历了一系列的演变。作为金属栅的热门候选材料之一，硅化镍(NiSi)由 于在耗硅量、熟预算、电阻