B掺入CuΣ5晶界间隙位性质的第一性原理研究

B掺入CuΣ5晶界间隙位性质的第一性原理研究随着纳米科技的快速发展，材料间的界面逐渐成为了研究的热点。晶界是材料中最常见的界面，它们代表着一种能量较高的区域，因此特别有意义。在研究晶界性质时，掺杂是一