以ti-al薄膜为阻挡层硅基铁电电容器集成
第 1 章 引言本章在介绍铜互连研究背景和铁电材料发展的基础上,重点分析了铜互连在应用中 面临的难点问题以及铜互连与铁电材料集成的重要意义,最后阐述了本论文的研究内容 和意义。1.1 铜互连技术1.1
以ti-al薄膜为阻挡层硅基铁电电容器集成