半导体工艺

一、简述平面双极型晶体管芯片的工艺流程衬底制备→埋层氧化→隐埋层光刻→隐埋层扩散→外延沉积→磷穿透氧化→磷穿透光刻→N+扩散→隔离氧化→隔离光刻→隔离扩散→基区氧化→基区光刻→基区扩散→发射区光刻→发