IIL单元电路的工艺制造方法浅谈的中期报告

IIL单元电路的工艺制造方法浅谈的中期报告在单元电路的工艺制造方法方面，目前主要的工艺包括光刻、蚀刻、沉积、离子注入（包括离子掺杂和离子束刻蚀）等。在这些工艺中，光刻技术可以将图案转移至半导体芯片表面