原子层淀积高介电常数介质的实验与理论研究综述报告
原子层淀积高介电常数介质的实验与理论研究综述报告引言原子层淀积技术 (ALD) 自发展以来,具有精密度高、重复性好、材料与宏观性质可大幅度调控等优点,在微电子、能源、传感器等领域得到广泛应用。其中,利
原子层淀积高介电常数介质的实验与理论研究综述报告