计算机控制光学抛光驻留时间求解中两类优化算法的分析

计算机控制光学抛光驻留时间求解中两类优化算法的分析引言光学抛光是一种常见的光学制造工艺，它的过程中需要控制抛光板的运动轨迹和抛光头的运动轨迹。控制这些运动轨迹的过程是一个复杂的动态最优化问题。本文将对