CH4在伊利石表面的吸附及其在钴表面的形成机理的开题报告
CH4在伊利石表面的吸附及其在钴表面的形成机理的开题报告引言甲烷(CH4)是一种广泛存在于自然界中的有机化合物。它是一种重要的能源来源,同时也是温室气体的主要成分。在大气中,温室效应导致气候变化的发生
CH4在伊利石表面的吸附及其在钴表面的形成机理的开题报告