硅基底表面特性对微通道界面滑移的影响

硅基底表面特性对微通道界面滑移的影响摘要：本文通过研究硅基底表面特性对微通道界面滑移的影响，探究了表面化学性质和表面形貌对微通道介质流动性能的影响，结合数据分析和理论模型，提出了解决微通道滑移问题的方

硅基底表面特性对微通道界面滑移的影响 摘要： 本文通过研究硅基底表面特性对微通道界面滑移的影响，探究了表 面化学性质和表面形貌对微通道介质流动性能的影响，结合数据分析和 理论模型，提出了解决微通道滑移问题的方法，为微流体领域的应用提 供了实用性的理论依据。 关键词：微通道；硅基底表面特性；界面滑移；表面化学性质；表 面形貌 引言： 微通道的应用领域涉及化工、生命科学、环境工程等许多领域，但 在微流体加工中，介质流动的压降和流量与传统介质流动的规律不同， 可能会出现一些异常的物理现象。其中之一就是滑移现象，是指介质在 微通道中的运动速度与界面附近的固体表面不一致的现象。滑移现象是 微流体领域中的一个重要难题，为调控微通道流动性能提出了更高的要 求。 硅基底是微电子加工中常用的基板材料之一，及其表面的特性对介 质的滑动阻力和界面滑动有很大影响。因此，研究硅基底表面特性对微 通道界面滑移的影响有重要意义。本文将从表面化学性质和表面形貌两 个方面研究硅基底表面的影响。 表面化学性质对微通道界面滑移的影响： 表面化学性质是指固体表面分子的自身属性，包括表面能、亲疏水 性和表面电荷等。表面化学性质对微通道的界面滑移影响主要是介质与 固体之间的黏附性和界面间的作用力大小决定了不粘连边界层的厚度和 性质，从而对介质流动的阻力和界面滑动产生影响。 表面化学性质的一个重要参数是介质和固体之间的界面接触角，而 接触角的大小与表面能以及表面覆盖层的性质有关。在硅基底表面处理