脉冲激光沉积法制备氧化亚铜薄膜的性质调控

脉冲激光沉积法制备氧化亚铜薄膜的性质调控脉冲激光沉积法（Pulsed laser deposition, PLD）是一种常用的纳米薄膜制备技术，其原理是利用高能脉冲激光瞬时照射固体靶材并产生蒸发、电离