强紫外发射ZnO薄膜的溅射方法制备及表征

强紫外发射ZnO薄膜的溅射方法制备及表征摘要：本文采用射频磁控溅射法在石英衬底上制备强紫外发射的ZnO薄膜。通过X射线衍射、扫描电子显微镜、荧光光谱等多种表征手段对样品进行了表征。结果表明，优化的溅射

ZnO 强紫外发射薄膜的溅射方法制备及表征 摘要： 本文采用射频磁控溅射法在石英衬底上制备强紫外发射的ZnO薄 膜。通过X射线衍射、扫描电子显微镜、荧光光谱等多种表征手段对样 品进行了表征。结果表明，优化的溅射参数可以制备出晶体结构良好、 光学性能优异的ZnO薄膜。该研究为进一步应用于紫外光电探测器等领 域提供了重要的实验基础。 关键词：射频磁控溅射；ZnO；强紫外发射；薄膜表征 一、引言 氧化锌（ZnO）是一种广泛存在于自然界中的广谱半导体材料，其 独特的光学、电学和力学性能已经吸引了广泛的研究和应用[1-3]。近年 来，随着紫外光电探测器等领域的日益发展，如何制备出高质量、强紫 外发射的ZnO薄膜成为了研究的重点。同时，采用射频磁控溅射法制备 ZnO薄膜也成为了研究人员关注的焦点，因其操作简便，对样品热效应 小等优点[4-5]。 本文结合上述研究背景，介绍了采用射频磁控溅射法制备ZnO薄膜 并进行表征的实验过程和结果。在此基础上，对影响强紫外发射ZnO薄 膜性能的关键因素进行了分析讨论，以期为进一步ZnO材料研究和应用 提供参考和思路。 二、实验部分 2.1实验材料 本实验所使用的ZnO靶材纯度为99.99%，石英衬底长方形，尺寸 为10mmx10mmx1.0mm。 2.2实验装置