基于傅里叶全息成像的光学掩模检测的开题报告

基于傅里叶全息成像的光学掩模检测的开题报告一、研究背景和意义随着先进制造工艺的逐步发展，光刻技术在集成电路制造中的应用日益广泛。光学掩模作为光刻的核心部件之一，其质量直接影响到芯片生产的质量和效率。因