磁控溅射(2讲义仪器)

【附录】DHRM-3射频磁控溅射镀膜装置介绍DHRM-3射频磁控溅射镀膜装置是高真空磁控溅射镀膜设备。它可用于在高真空背景下，充入高纯氩气，采用磁控溅射方式制备各种金属膜、介质膜、半导体膜，而且又可以

【附录】DHRM-3射频磁控溅射镀膜装置介绍 DHRM-3射频磁控溅射镀膜装置是高真空磁控溅射镀膜设备。它可用于在高真 空背景下，充入高纯氩气，采用磁控溅射方式制备各种金属膜、介质膜、半导体 膜，而且又可以较好地溅射铁磁材料（Fe、Co、Ni），制备磁性薄膜。在镀膜工艺 条件下，采用微机控制样品转盘和靶挡板，可以制备单层膜，为新材料和薄膜科学 研究领域提供了十分理想的研制手段。 概述 本系统主要由溅射真空室、磁控溅射靶、基片公转台、单基片加热台、工作 气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。 图1、真空室示意图