gan基基半导体材料光学特性研究(兰州交通大学
1.绪论20世纪90年代以来,由于异质外延缓冲层技术的采用和GaN的P型掺杂技术的突破,从而开辟了GaN通向实际应用的光辉大道,引发了全世界GaN研究的热潮,并已取得了辉煌的成绩。GaN超高亮度蓝、绿
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