化学气相沉积CVD

化學氣相沉積一種利用化學反應方式,將反應物(氣體)生成固態產物,並沉積在晶片表面的薄膜沉積技術;如生成–導體: W(鎢), Poli-Si(多晶矽)–半導體: Epitaxy(單晶矽)–絕緣體(介電材