一种基于窗口的双重图形版图分解方法

大连理工大学硕士学位论文摘 要随着集成电路特征尺寸的不断地缩小，工业上使用的 193nm 光刻波长已经达到了分辨率极限。短期内极紫外光刻（Extreme Ultraviolet Lithography