微波等离子刻蚀

微波等离子刻蚀作 者:管道霞 指导老师:杨建荣 摘要:利用显影后的光刻胶图形作为掩膜～在等离子体存在的条件下～在SiO2～SiN4金属、多晶硅等衬底上腐蚀一定深度的薄膜物质～得到与光刻胶图形相同的集成