基于Ge-Sb-Se薄膜的硫系光波导制备工艺研究

基于Ge-Sb-Se薄膜的硫系光波导制备工艺研究基于Ge-Sb-Se薄膜的硫系光波导制备工艺研究摘要：硫系光波导作为一种具有良好的光学性能和潜在应用的材料，受到了广泛关注。本研究以Ge-Sb-Se薄膜

Ge-Sb-Se 基于薄膜的硫系光波导制备工艺研究 Ge-Sb-Se 基于薄膜的硫系光波导制备工艺研究 摘要： 硫系光波导作为一种具有良好的光学性能和潜在应用的材料，受到了广泛关注。本研 Ge-Sb-Se 究以薄膜为研究对象，通过探究硫系光波导的制备工艺，研究其光学性质和 Ge-Sb-Se 应用潜力。通过不同的制备参数调控，成功制备出具有优异光学性能的光波 导材料，并探索了其在光子学领域的应用。 Ge-Sb-Se 关键词：薄膜；硫系光波导；制备工艺；光学性质；应用潜力 1. 引言 硫系光波导材料由于其较大的非线性折射率、较低的损耗和宽的透明窗口而在光子学 Ge-Sb-Se 领域受到广泛关注。薄膜由于其良好的光学性能和热稳定性而成为研究的热 Ge-Sb-Se 点。本文以薄膜为研究对象，通过优化制备工艺，探究其光学性质和应用潜 力。 2. 实验方法 Ge-Sb-Se 首先，使用磁控溅射法在晶体衬底上制备薄膜。接下来，利用激光纳米显微 Raman 镜检测和激发光谱分析等方法，对样品进行表征和分析。 3. 制备工艺研究 Ge-Sb-Se 通过改变制备参数，如沉积时间、沉积温度、溅射功率等，优化薄膜的制备 工艺。随着沉积温度的增加，薄膜的晶化程度增强，同时透明窗口范围扩大。通过调 节沉积功率，可以控制薄膜的厚度和光学性能。同时，使用不同的基底材料和控制衬 底温度，可以进一步改善薄膜的生长质量和界面结合强度。 4. 光学性质研究 RamanGe-Sb-Se 通过激光纳米显微镜和激发光谱分析等技术评估薄膜的光学性质。 Ge-Sb-Se 研究结果表明，薄膜具有较低的光学损耗和较高的非线性折射率，表现出优 Ge-Sb-Se 异的光学性能。此外，透射光谱分析还显示薄膜在近红外范围内具有较高的 透过率，表明其在光子学器件的应用具有潜力。 5. 应用潜力研究