多孔SiOCH薄膜的O等离子体表面处理研究的中期报告

多孔SiOCH薄膜的O等离子体表面处理研究的中期报告一、研究背景多孔SiOCH薄膜以其高比表面积、低介电常数、低介电损耗等优异性能被广泛应用于微纳电子器件、光学器件等领域。但是，它们的应用受到表面态密