基于并行计算的电子束光刻邻近效应校正技术研究的开题报告

基于并行计算的电子束光刻邻近效应校正技术研究的开题报告一、选题背景电子束光刻技术是半导体制造中的关键工艺之一，其精度和分辨率对于芯片制造的质量和性能影响极大。然而，电子束光刻在实际应用中会受到邻近效应