C镀层性能的影响的开题报告

碳含量对磁控溅射Cr/C镀层性能的影响的开题报告一、背景介绍：磁控溅射是目前应用广泛的表面处理技术之一，通常用于制备金属、合金或者非晶态材料的薄膜。其中，Cr/C多层膜以其优秀的耐磨性和抗腐蚀性能曾被