氟掺杂SiCOH薄膜沉积的等离子体化学特性研究的综述报告
氟掺杂SiCOH薄膜沉积的等离子体化学特性研究的综述报告氟掺杂SiCOH薄膜是一种常用于微电子制造中的关键材料,其具有优异的机械性能、热稳定性以及低介电常数等特点。然而,氟的掺杂对SiCOH薄膜的化学
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