半导体制造中常用化学品

半导体制造中常用化学品半导体制造过程中常用的酸名称1符号用途11氢氟酸HF刻蚀二氧化硅（SiO2）以及清洗石英器皿盐酸HCl湿法清洗化学品，2号标准清洗液的一部分，用来去除硅中的重金属元素硫酸1H2S