离子轰击在离子镀过程中的作用
离子轰击在离子镀过程中的作用 ?一、离子轰击基片表面所产生的各种效果 ?1. 离子溅射对基片表面产生清洗作用 ?这一作用可清除基片表面上的污染层和氧化物。如果轰击粒子能量高,化学活性大,则可与基片发生
离子轰击在离子镀过程中的作用