二氧化硅的去除

工业用水 '> 工业用水中的硅化合物会对生产过程产生不同程度的危害。 工业锅炉补给水、 地热水和冷却水的硅化合物易于形成硅垢，且形成的硅垢致密坚硬，难于用普通的方法冲洗，严重影响设施的传热效率以及安全

二氧化硅的去除 '> 工业用水工业用水中的硅化合物会对生产过程产生不同程度的危害。工业锅炉补给水、 地 热水和冷却水的硅化合物易于形成硅垢，且形成的硅垢致密坚硬，难于用普通的方法冲洗， '> 严重影响设施的传热效率以及安全运行；电子工业用水工业用水中， 二氧化硅会对在单晶 1'> 硅表面生产半导体造成极大危害，降低电子管及固体电路的质量［］；在造纸工业用水 '> 工业用水中，二氧化硅含量过高，将使纸质变脆；在人造丝工业用水工业用水中，硅酸含 硅酸含量超过一定范围将出现乳 量过高将影响纤维强度和粘胶的粘度；在湿法冶金用水中， 化而影响生产。为此在不同的给水办理系统中，均需充足考虑硅的脱除。 1 混凝脱硅 混凝脱硅是利用某些金属的氧化物或氢氧化物对硅的吸附或凝聚来达到脱硅目的的一 60% 种物理化学方法。 这是一种非深度脱硅方法， 一般的混凝 过滤可去除的胶体硅， 混凝 澄清 90% 2 过滤可去除的胶体硅［］。 镁剂脱硅 在实际的水办理过程中，常将镁剂和石灰一同使用以保证脱硅效果。 3 镁剂脱硅的效果断定于［］： ● pH pH pH 值：镁剂脱硅的最正确值为～。为保证值，有必要在办理系统中加入石灰。 pH 石灰不单有调节的功能，而且还能够除掉部分二氧化硅、暂时硬度和二氧化碳等。 ②混凝剂的用量： 采用镁剂脱硅时， 往常都加混凝剂。 适合的混凝剂能够改良氧化镁 L 沉渣的性质，提高除硅效果。一般所用的混凝剂为铁盐，其添加量为～。 40 ℃时出水中残留硅可达 ③水温：提高水温能够加速除硅过程，并使除硅效果提高。 1mg/L 以下。 301h40 1 h ④水在澄清器中的停留时间：水温为 ℃时， 实际停留时间应＞，℃时约为 ， 120 20 30min ℃时为～。 原水中硅化合物含量对镁剂比 ⑤原水水质： 原水的硬度大时对镁剂脱硅的效果有利。 随水中胶体硅所 (mgMgO/mgSiO2-3) 耗有影响。 镁剂比耗随原水硅化合物含量的增加而减少， 520 占比率的增加而增加，一般在～范围内。 铝盐脱硅 4 决定铝盐脱除溶解硅效果的主要条件有［］： 20 ℃。 ①温度：铝盐除硅的最适宜温度为 3 0 m i n ②接触时间：在铝盐与含硅水接触 后 ， 大 部 分 的 硅 可 被 吸 附 脱 除 。 ● pH pH 89 值：最适宜的值范围为～。 尤其是经过干燥后， ④铝盐的结晶状态和物理性质：铝盐积淀物假如在溶液之外生成， AlO(OH) 其脱硅效果将大为减弱，而铝盐的结晶状态对二氧化硅脱除效果的影响为：＞＞ Al(OH)3 。 pH 40mol 1 m o l 铝盐脱除胶体硅的最正确范围为～，大概胶体硅仅需 铝 盐 即 可 。