直拉单晶硅中洁净区形成后铜沉淀行为的研究

直拉单晶硅中洁净区形成后铜沉淀行为的研究随着科技的不断发展，单晶硅材料在半导体工业中的应用越发广泛。在制造单晶硅材料的过程中，洁净区的形成对于成品的质量至关重要。然而，铜等金属杂质的存在往往会影响单晶