一种改善由隧穿氧化层氮化技术引起栅氧化层衰退的方法

一种改善由隧穿氧化层氮化技术引起栅氧化层衰退的方法随着集成电路技术的不断发展，栅氧化层衰退已经成为制约器件可靠性和工作寿命的主要因素之一。近年来，隧穿氧化层氮化技术被广泛应用于栅氧化层的修复和改进中。