半导体器件工艺学之氧化

- 一、 SiO2特性自然氧化膜，在工艺制造中认为是一种沾污。 工艺中需要的氧化膜（SiO2）可以通过热氧化或淀积得到SiO2结构：结晶型 无定型物理特性：电阻率 密度 介电常数K 等化学