以HMDS为前驱体沉积SiC涂层的研究

以HMDS为前驱体沉积SiC涂层的研究摘要本文研究了将HMDS作为前驱体，采用化学气相沉积技术，在SiC基体上制备SiC涂层的方法。结果表明，所制备的SiC涂层具有优异的物理和化学性质，具有很高的抗氧