赝能隙研究新进展

赝能隙研究新进展随着现代材料科学的快速发展，对于半导体材料的探究也日益深入。在半导体材料中，能带结构和能隙是其性质和应用的决定性因素之一。而关于半导体材料能隙的研究，一直是一个重要的研究方向。本文将对