反应离子深刻蚀硅的研究

反应离子深刻蚀硅的研究反应离子深刻蚀硅的研究摘要：反应离子深刻蚀（RIE）是一种常用的加工技术，可用于蚀刻半导体材料，特别是硅。本文综述了RIE技术的原理和应用，并介绍了重要的研究成果。主要讨论了RI