交替溅射法制备BaM铁氧体薄膜的特性研究

交替溅射法制备BaM铁氧体薄膜的特性研究交替溅射法制备BaM铁氧体薄膜的特性研究摘要：BaM铁氧体薄膜具有广泛的应用前景。本文采用交替溅射法制备BaM铁氧体薄膜，并通过X射线衍射、扫描电子显微镜等手段

BaM 交替溅射法制备铁氧体薄膜的特性研究 交替溅射法制备BaM铁氧体薄膜的特性研究 摘要： BaM铁氧体薄膜具有广泛的应用前景。本文采用交替溅射法制备 BaM铁氧体薄膜，并通过X射线衍射、扫描电子显微镜等手段对其结构 和性能进行研究。结果表明，制备得到的BaM铁氧体薄膜具有较好的晶 体结构和磁性能，具有良好的应用前景。 关键词：BaM铁氧体薄膜，交替溅射法，晶体结构，磁性能 引言： BaM铁氧体是一种重要的磁性材料，在电子器件、磁性存储领域等 得到广泛应用。目前，制备BaM铁氧体薄膜的方法有很多，如磁控溅射 法、化学气相沉积法等。交替溅射法是一种制备薄膜的常用方法之一， 其可以制备出具有良好晶质性和较高的组分控制性的薄膜。本文将采用 交替溅射法制备BaM铁氧体薄膜，并研究其结构和性能。 实验部分： 材料：BaM铁氧体靶材、Si(100)衬底 仪器：交替溅射薄膜制备装置、X射线衍射仪、扫描电子显微镜等 制备方法：先将Si衬底进行超声清洗，接着将靶材放置在交替溅射 薄膜制备装置的靶架上。以Ar气体为惰性气体，控制压强在 8×10^-4Pa以下，通过调节靶材和衬底的距离和正负极性的变化，完成 交替溅射成膜过程。最后将制备好的薄膜进行退火处理，以获得理想的 结构和性能。 结果与分析： 通过X射线衍射分析可知，在制备BaM铁氧体薄膜的过程中，晶