特气在硅与氧化层界面的应用

特气在硅与氧化层界面的应用特气在硅与氧化层界面的应用摘要：在现代科学和技术中，硅材料是一种重要的半导体材料，而氧化物则是硅材料中最常见的一种辅助材料。硅与氧化层的界面性质对器件的性能和可靠性有着重要影