等离子体刻蚀过程中有害气体净化的原理和方法

等离子体刻蚀过程中有害气体净化的原理和方法 真空电子技术 　研　究　与　设　计 VACUUMELECTRONICS 黄光周,马国欣,于继荣,杨英杰,周仲浩 (华南理工大学