360吨每天产半导体生产废水处理设计方案书

360吨每天产半导体生产废水处理设计方案书 一. 业 主： 公司 二. 工程地址： 三. 联络电话：二. 概说于半导体生产过程中产生的电镀废水，以及RO/UF运行.混床再生过程中

360 吨每天产半导体生产废水处理设计方案书 一. 业主： 公司 二. 工程地址： 三. 联络电话： 二. 概说 于半导体生产过程中产生的电镀废水，以及RO/UF运行.混床再生过程中 M^3/day 产生的反洗水和酸碱废水,日排放废水总量为360。 本规划设计书系针对废水之来源，性质及流量拟定可行性之处理，本最最 经济有效之原则以彻底解决公害问题。并确保达排放标准。 三. 设计基础 一. 处理方式：本案采 "连续式"处理法 二. 放流标准：符合排放标准（业主要求） 三. 设计水量：360M^3/24HRS 四、废水性质： PH ：考虑酸碱性 设计值：考虑酸碱性 BOD： 300 mg/L 设计值：450 mg/L COD： 500 mg/L 设计值：680 mg/L SS： 200 mg/L 设计值：250 mg/L Ag： 20 mg/L 设计值：25 mg/L