基于辐射接枝基底的宏尺寸UiO-66-S膜制备及其对代血浆中汞离子的清除

基于辐射接枝基底的宏尺寸UiO-66-S膜制备及其对代血浆中汞离子的清除基于辐射接枝基底的宏尺寸UiO-66-S膜制备及其对代血浆中汞离子的清除摘要：汞离子作为一种有毒物质存在于环境中，常见于工业废水

UiO-66-S 基于辐射接枝基底的宏尺寸膜制备及其对 代血浆中汞离子的清除 基于辐射接枝基底的宏尺寸UiO-66-S膜制备及其对代血浆中汞离 子的清除 摘要： 汞离子作为一种有毒物质存在于环境中，常见于工业废水和废弃物 中，对人体健康和生态系统造成了极大的威胁。本研究旨在制备一种具 有高效去除汞离子能力的宏尺寸UiO-66-S膜，并通过实验验证其在代血 浆中的汞离子清除能力。结果表明，通过辐射接枝基底的方法制备的 UiO-66-S膜具有优异的去除汞离子的能力，且具有良好的稳定性和重复 使用性。本研究为应对汞污染问题提供了新的解决方案。 1.引言 汞离子是一种有毒物质，对人体健康和环境造成了严重的危害。传 统的去除汞离子的方法主要包括吸附、沉淀、还原和离子交换等。然 而，这些方法存在着处理效率低、操作复杂等问题。因此，寻找一种高 效去除汞离子的新方法成为了迫切的需求。 2.实验方法 2.1材料和仪器 本实验中使用的材料包括辐射接枝基底、UiO-66-S等。实验所用的 仪器有透射电子显微镜(TEM)、扫描电子显微镜(SEM)、X-射线衍射 (XRD)等。 2.2膜制备 首先，将辐射接枝基底放置于UiO-66-S溶液中，浸泡一定时间。 然后，将浸泡后的辐射接枝基底取出，经过烘干处理。最后，将烘干后