放电条件及气体流量对磁控溅射Cr镀层沉积效果影响研究

放电条件及气体流量对磁控溅射Cr镀层沉积效果影响研究摘要：磁控溅射是一种常用于金属镀层制备的技术，其制备的镀层具有优异的性能。为了进一步探究磁控溅射Cr镀层的沉积效果，本研究以放电条件和气体流量为变量