GaAs中600KeV氧离子注入的实验研究和应用

GaAs中600KeV氧离子注入的实验研究和应用摘要本文研究了在GaAs半导体材料中注入600KeV氧离子的实验过程，并探讨了此技术在半导体器件加工中的应用前景。实验结果表明，氧离子注入可以显著地影响