三光束大面积光刻及表面结构检测的中期报告

三光束大面积光刻及表面结构检测的中期报告背景在微电子制造中，光刻技术是一项至关重要的工艺。它利用特殊的光刻胶对芯片表面进行光照，以形成各种微结构。然而，传统的光刻技术受到了限制，因为它只能实现单个光束